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中科院研究员澄清5nm光刻机技术为误读：国产水平在180nm
国内的光刻机到底在什么水平？一位半导体产业界资深人士对AI财经社说，目前可以实现180nm制程，但还在试用阶段，仍需要攻克。 -
国产水平在180nm，中科院研究员澄清5nm光刻机技术为误读
国内的光刻机到底在什么水平？一位半导体产业界资深人士对AI财经社说，目前可以实现180nm制程，但还在试用阶段，仍需要攻克。
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